光学纤维的气密涂层方法
申请专利号 85104312
专利申请日 19850607
名称 光学纤维的气密涂层方法
公开(公告)号 1005456
公开(公告)日 19861203
类别 C03C 25/02
申请(专利权)人 国际标准电器公司
地址 美国纽约州.纽约10022.帕克大街320号
发明(设计)人 蒂帕克.兰简.比斯瓦斯、萨泰亚布拉特.雷昌德赫里、S.W.罗恩诺克、N.W罗恩诺克
专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 王宪模 王申
摘要
对刚从光学预制件拉出的一种光纤提供两层外部气密涂层.初始涂层是用一种非均匀核化的热化学沉积(HNTD)法,来实现的一种金属或介质涂层.该法使光纤通过一含有一种气体介质的反应区,此介质含有一或几种反应物的混合物,在一预定温度下,前者分解生成而后者反应形成涂层材料.这种预定温度可从光纤制造中保持的热量来获得,该热量通过一种隔热件将其保持在光纤的表面,从而不需附设加热装置.可采用如HNTD法或化学汽相沉积法来沉积第二层涂层.
主权项
由光学材料形成的光纤的暴露表面上形成气密涂层的一种方法,其特征在于使光纤(4)通过一种气体介质,此种介质至少含有一种能在预定温度下,经化学反应转变为一种气密涂层(51)材料的反应物,利用光纤(4)从其成形工艺中获得的热含量来提供预定的温度。

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