| 根据本发明提出的为一种玻璃基片进行涂层的方法，包括以下各道工序： ａ将所述的玻璃基片保持在一个基本成水平的位置上； ｂ将所述的玻璃基片保持在这样一个温度下，足以使汽化的涂层反应料起反应而在此玻璃表面上沉积一层薄膜； ｃ使涂层反应料汽化； ｄ提供一种喷嘴，它的结构可使汽化的涂层反应料形成紊流； ｅ用上述喷嘴将该汽化的涂层反应料输送到此玻璃基片的底表面上，而该反应料即在此底表面上反应沉积成一层薄膜； ｆ提供了与喷嘴邻接的整体装配的排气装置； ｇ使上述排气装置保持在负压下； ｈ通过此排气装置将未反应的和未沉积的涂层反应料蒸汽以及反应过程的副产物撤除。 |