偏端霉素衍生物的制备方法
申请专利号 86104774
专利申请日 19860716
名称 偏端霉素衍生物的制备方法
公开(公告)号 1008491
公开(公告)日 19870211
类别 C07K 5/08、A61K 37/02
申请(专利权)人 法玛西雅厄普约翰公司
地址 意大利.米兰
发明(设计)人 费德里科.阿卡莫尼、尼科拉.蒙盖利、法比奥.阿尼马蒂
专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 王杰 张元忠
摘要
本发明涉及下列结构式为[I]的偏端霉素A衍生物的制备方法:其中R是一个单取代或双取代氨基,并且每一个R-[1]可以任意地是氢或烷基.按照本发明的方法,结构式为[I]的化合物可以通过诸如酰化的方法来改变N-脱甲酰基偏端霉素A的氨基来制备,由本发明的方法制得的这些化合物可以用作抗病毒和抗肿瘤剂.
主权项
结构式为(1)化合物的制备方法  ***(I)  其中  R是a/-NHR↓[3],其中的R↓[3]是  a′/一CON(NO)R↓[4],在该基团中R↓[4]是未取代的或被卤素取代的C↓[1]-C↓[4]烷基;或  b′/-CO(CH↓[2])↓[m]-R↓[5],在该基团中R↓[5]是卤素、环氧乙烷基、甲基环氧乙烷基、氮丙啶基、环丙基或一个脂环的α,β一不饱和酮基或内酯基,和m是零或1到4的整数;或  b/*,在该基团中R↓[6]和R↓[7]相同,都是环氧乙烷甲基、氮丙啶甲基或2-位被卤素或被-OSO↓[2]R↓[8]基团取代的C↓[2]-C↓[4]烷基,而基团-OSO↓[2]R↓[8]中,R↓[8]是C↓[1]-C↓[4]烷基或苯基,或R↓[6]和R↓[7]中的一个基团是氢而另一个基团按上面所规定的;和 每一个R↓[1]基团是任意的氢或C↓[1]-C↓[4]烷基以及它们的药用容许的盐。所述的方法包括:  A)结构式为(Ⅱ)的一种化合物  ***(II)  其中  R↓[1]按上面所规定的,和结构式为(Ⅲ)的一种化合物反应  ***(Ⅲ)在结构式Ⅲ中  R↓[4]按上面所规定的,Z是一个离去基团,这样就得到了结构式为(1)的化合物,式(1)中的R是-NHR↓[3],而R↓[3]是-CON(NO)R↓[4],该式中的R↓[4]按上面所规定的;或  B)结构式为(Ⅱ)的一种化合物,其中R↓[1]按上面所规定的,与结构式为(Ⅳ)的一种化合物反应  Z′-CO-(CH↓[2])↓[m]-R↓[5](Ⅳ)  式(Ⅳ)中  R↓[5]和m如上面规定的,而Z′是一个离去基团,这样得到了结构式为(1)的化合物,式(1)中R是-NHR↓[3]和R↓[3]是  -CO(CH↓[2])↓[m]-R↓[5],式中的m和R↓[5]如上面所规定的;或  C)结构式为(Ⅱ)的一种化合物,式(Ⅱ)中R↓[1]按上面所规定的,与结构式为(Ⅴ)的一种化合物反应,  ***(Ⅴ)  式中的X可以是氢、C↓[1]-C↓[2]烷基或卤代甲基,得到结构式为(Ⅵ)的一个化合物,  ***(ⅤI)  结构式(Ⅵ)中  R↓[1]按上面所规定的,每一个X所表示的与化合物(Ⅴ)中所表示的一致,并且将结构式(Ⅵ)的化合物转变成结构构为(I)的化合物,式(I)中的R是***,该基团中R↓[6]和R↓[7]按上面

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