| 申请专利号 |
95196473 |
| 专利申请日 |
19950901 |
| 名称 |
金属层用的化学机械抛光淤浆 |
| 公开（公告）号 |
1166805 |
| 公开（公告）日 |
19971203 |
| 类别 |
C09G 1/00、B24B 1/00 |
| 申请（专利权）人 |
卡伯特微电子公司 |
| 地址 |
美国伊利诺伊州 |
| 发明（设计）人 |
马修·内维尔、戴维·J·弗拉克、迈克尔·A·卢卡瑞里、黛布拉·L·谢尔伯、洪正宏 |
| 专利代理机构 |
柳沈知识产权律师事务所 |
| 代理人 |
巫肖南 |
| 摘要 |
| 一种用于金属层化学机械抛光的淤浆，含有均匀分散在稳定的含水介质中的纯度高、细的金属氧化物粒子。 |
| 主权项 |
| 一种金属层抛光用的化学机械抛光淤浆，包括： 均匀分散在含水介质中的高纯、细金属氧化物粒子，它具有约４０～４３０ｍ↑［２］／ｇ的表面积、小于约１．０微米的聚集粒径分布、小于约０．４微米的平均聚集直径和一个足以排斥和克服粒子间范德华力的力，其中所述的淤浆是胶体稳定的。 |