一种气雾剂型含高分子组分的去污上光保护剂
申请专利号 96120220
专利申请日 19961021
名称 一种气雾剂型含高分子组分的去污上光保护剂
公开（公告）号 1152596
公开（公告）日 19970625
类别 C09G 1/16
申请（专利权）人 厦门大学
地址 福建省厦门市思明南路422号
发明（设计）人 戴李宗
专利代理机构 厦门大学专利事务所
代理人 陈永秀 马应森
摘要
本发明涉及一种基于非蜡物质的抛光组合物。由聚二甲基硅氧烷６～９份、抗静电剂０．８～１．２份、香精０．２份、溶剂汽油８０～９０份及高分子材料溶液３～６份组成。经喷涂去污后的材料表面不仅能形成一层光亮的有机硅树脂膜，还能形成一层具韧性和弹性的高分子保护层，并对材料表面微小损伤及擦痕有填平、修补作用，达到去污、上光、保护一次完成的目的。适用于车辆、皮革、家具、家用电器、电镀件及金属等材料表面去污、上光、保护。
主权项
一种气雾剂型含高分子组分的去污、上光、保护剂，含聚二甲基硅氧烷、抗静电剂、香精和溶剂汽油，其特征在于还含有高分子材料溶液；所说的高分子材料溶液为以溶剂汽油为溶剂，含６～１０％高分子材料及含有占高分子材料重量１．２％的对苯二酚；各组份的含量（重量份）为６～１０％高分子材料溶液３～６份、抗静电剂０．８～１．２份、聚二甲基硅氧烷６～９份、香精０．２份和溶剂汽油８０～９０份。

    0 人评论

    提交您的看法