| 申请专利号 |
89100194 |
| 专利申请日 |
19890114 |
| 名称 |
在可光聚合层中形成反射全息图的方法 |
| 公开（公告）号 |
1036083 |
| 公开（公告）日 |
19891004 |
| 类别 |
G03H 1/04、G03H 1/18、G03C 1/68 |
| 申请（专利权）人 |
纳幕尔杜邦公司 |
| 地址 |
美国特拉华州 |
| 发明（设计）人 |
达伦·尤金·基斯、威廉·卡尔·斯马瑟斯 |
| 专利代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 |
王惠 黄家伟 |
| 摘要 |
| 在此公开一种可用于在上述可光聚合层中制备反射全息图的改进方法。该反射全息图可借助于用某些增强剂处理或借助于热处理使之增强。 |
| 主权项 |
| 一种形成反射全息图的方法，其中一个相干光化辐射参比光束和同一相干光化辐射的物光束从相反侧面进入一层记录介质并在其中产生干涉图样从而形成全息图，其特征在于：该介质是一种大体上固态的可光聚合层，基本上包括： （ａ）一种聚合物粘合剂，可由以下一组中选择：聚乙酸乙烯酯，聚乙烯醇缩丁醛，聚乙烯醇缩乙醛，聚乙烯醇缩甲醛，含有它们的主要链段的共聚物，以及它们的混合物； （ｂ）一种含烯不饱和单体，可由以下一组中选择：含咔唑的单体和一种含一个或多个苯基、苯氧基、萘基、萘氧基、含至多达三个芳环、氯和溴的芳香杂环基的液体单体；和 （ｃ）一种可用光化辐射活化的光引发剂体系。 |