| 一种制备纳米级有序微裂纹的方法，其特征在于： 所需设备、材料及检测手段如下： １） 设备要求：超声清洗仪，指标不做特别要求；脉冲激光源为Ｌａｍｂｄａ Ｐｈｙｓｉｋ公司生产的ＬＰＸ ３００ｃｃ型ＫｒＦ激光器，激光波长为２４８ｎｍ，脉宽２５ｎｓ；真空镀膜设备，其极限真空度为５．０×１０↑［－４］Ｐａ，基片台最高加热温度１０００℃，靶间距４．０～４．７ｃｍ；真空镀膜设备的配套真空泵；第一级真空泵为机械泵，抽气速率８Ｌ／ｓ，极限压力６×１０↑［－２］Ｐａ，第二级真空泵为分子泵，抽气速率６００Ｌ／ｓ，极限压力１×１０↑［－８］Ｐａ；真空镀膜设备的配套温控仪为日本岛电公司生产的ＳＲ５０型单回路过程调节器；离子刻蚀设备的极限真空度为５．０×１０↑［－４］Ｐａ；离子刻蚀设备的配套真空泵同上述真空镀膜设备的配套真空泵； ２） 材料要求：分析纯酒精，分析纯丙酮，去离子水；（１００）取向的ＳｒＴｉＯ↓［３］（ＳＴＯ）基片，单面抛光；高纯氧气，高纯氩气；Ｌａ↓［０．５］Ｃａ↓［０．５］ＭｎＯ↓［３］（ＬＣＭＯ）靶材； ３） 检测手段：台阶测厚仪测膜层厚度；Ｘ－ｒａｙ测薄膜的晶体结构；原子力显微镜（ＡＦＭ）测薄膜和基片的表面形貌；透射电子显微镜（ＴＥＭ）做薄膜的截面掩衬像； 包括以下步骤： １）清洗基片：将ＳＴＯ基片先后浸于分析纯丙酮和分析纯酒精中，反复进行超声清洗，直至其抛光表面清洁、肉眼观察无污染物为止，最后用去离子水清洗； ２）制备ＬＣＭＯ薄膜：将清洗过的基片烘干后用银胶粘于镀膜室的基片台上准备沉积；对镀膜室抽真空，同时以１０００～１５００℃／小时的速率加热基片台至沉积温度７５０～８００℃；当镀膜室的背底真空度小于４．０×１０↑［－３］Ｐａ且基片台在沉积温度处恒温时，以一定的气流量持续充入高纯氧气；气流量用超高真空角阀调节，数值以分子泵不过载为限；使真空度稳定在３０～７０Ｐａ；随后进行脉冲激光溅射，所用的脉冲激光参数范围如下：激光能量为４００～６００ｍＪ／脉冲；激光频率为３～８Ｈｚ；激光能量密度为１．２～２．０Ｊ／ｃｍ↑［２］；靶上光斑大小约２ｍｍ↑［２］；在此条件下，ＬＣＭＯ薄膜的沉积率约２０纳米／分钟，选取４～８分钟的溅射时间即可制备出厚度８０～１６０纳米的ＬＣＭＯ薄膜； ３）进一步热处理：溅射完毕后，快速充入高纯氧气 |